入选理由：2026年10月，公司拟以货币方式向米莱芯程进行增资，本次增资总金额36,100万元人民币，其中公司出资6,000万元。本次增资完成后，公司持有米莱芯程的股权比例由37.2760%被动稀释到33.2692%。对于投影式曝光机整机设计与集成，米莱芯程掌握全流程的系统设计技术以及千余个细分步骤的整机软硬件集成、整机标定以及性能调试的系统集成技术，且具备成功的实操经验。公司创始人兼技术负责人高安曾在ASML任职。目前米莱芯程全资子公司芯颐和科技的光学产品分为高中低端三类产品：1）高端光学系统（物镜及照明系统）应用于前道KrF和iline光刻机，最高可实现110nm分辨率；2）中端光学系统（物镜及照明系统）应用于封装投影光刻机及封装直写光刻机，超大视场(120mmx120mm）适应于先进封装发展需求；3）低端光学系统（物镜及照明系统）应用于光伏投影光刻机，分辨率5μm，可支持每小时8000片曝光产能，已实现小批量出货。