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国林科技(300786)内幕信息消息披露
 
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(深互动)国林科技:半导体级臭氧可满足薄膜沉积等工艺制程需求

http://www.gubit.cn  2026-10-12  国林科技内幕信息

来源 :深交所互动易2026-10-12

  irm1347477问国林科技(300786)请问公司产生的半导体级臭氧是SiC栅氧化过程中的氧化气源吗?

  2026-10-03 20:03:10

  国林科技答irm1347477

  尊敬的投资者,您好。臭氧在半导体行业的应用范围主要包括薄膜沉积、湿法清洗、表面处理、氧化物生成等工艺制程,子公司国林半导体现有产品可以满足上述工艺制程的应用需求。详细产品技术信息请查阅公司官方网站或公司定期报告进行了解。感谢您的关注。

  2026-10-12 11:30:04

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